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发布时间: 2019 - 03 - 22
镜面抛光液:又名纳米镜面抛光液材质:二氧化硅原理:在研磨皮与工件接触摩擦时其化学作用力腐蚀润滑表面,从而达到超镜面效果适用: 铝合金/不锈钢/陶瓷/基本简介:等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内,因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,但是在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正点的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。相关技术:与传统抛光工艺相比,环保等离子纳米抛光工艺的优势主要表现在:1、减轻环保压力。辉碟自动化可以有限公司所使用的纳米抛光液非常环保,其废液可以直接排放而不会造成污染,也可以稍作处理回收利用。纳米抛光加工费用低,有利于推广,并且对加工环境无污染,适应绿色制造的发展方向。2、降低生产成本。半自动、全自动环保等离子纳米抛光设备采用自动化控制,操作简单,维护方便,减少作业人员、降低人工成本。同时也可为客户节省因人工抛光、电解抛光、化学抛光等传统抛光方法而造成的许多材料消耗。3、提高生产效率。半自动、全自动环保等离子纳米抛光设备通过专用药剂可在十几秒到两分钟内达到电镀镜面效果,大大提高了生产效率。4、纳米抛光效果好,提升产品品质。利用半自动、全自动环保等离子纳米抛光设备抛光出的产品具有高品质,而且可以对一些人工不可能抛光的精密工件加以抛光。其精度控制极高,尺寸影响小,通常可控制在0.1微米/分钟,...
发布时间: 2019 - 03 - 02
圆形镜面抛光白皮:材质:聚氨酯原理:其带有超细纳米磨料的表面摩擦工件 配合抛光液体化学力,达到表面效果适用: 铝合金/不锈钢/陶瓷/玻璃适用设备3D五轴抛光机/平面研磨机/各种抛光设备镜面抛光直接取决于光洁度的高低,直接解译为像镜面一样光洁,Ra0.2以下等抛光垫规格项目具体内容参数:抛光垫常用尺寸:     圆形片380mm      圆形片460mm      圆形片610mm      圆形片910mm方形: 1480×550mm,  1480×640mm,  1480×1280mm.抛光垫常用厚度从0.5mm至10mm,常用厚度:0.8mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm、3mm广泛应用于     ●精密光学   ●平板玻璃/ LCD / FPD    ●存储磁盘驱动器   ●半导体陶瓷基板   ●光学玻璃   ●LED蓝宝石基板  ●晶体等抛  光领域, 可以抛光多种材质的工件如硅片、砷化镓、石英晶体、蓝宝石、金属、玻璃、半导体陶瓷材料等
发布时间: 2019 - 03 - 02
圆形黑金抛光皮材质:聚氨酯原理:其带有超细纳米磨料的表面摩擦工件 从而降低表面粗糙度,清除划痕,适用设备:3D五轴抛光机/平面研磨机/各种抛光设备镜面抛光直接取决于光洁度的高低,直接解译为像镜面一样光洁,Ra0.2以下等抛光垫规格项目具体内容参数:抛光垫常用尺寸:     圆形片380mm      圆形片460mm      圆形片610mm      圆形片910mm方形: 1480×550mm,  1480×640mm,  1480×1280mm.抛光垫常用厚度从0.5mm至10mm,常用厚度:0.8mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm、3mm广泛应用于     ●精密光学   ●平板玻璃/ LCD / FPD    ●存储磁盘驱动器   ●半导体陶瓷基板   ●光学玻璃   ●LED蓝宝石基板  ●晶体等抛  光领域, 可以抛光多种材质的工件如硅片、砷化镓、石英晶体、蓝宝石、金属、玻璃、半导体陶瓷材料等
发布时间: 2019 - 03 - 02
镜面清洗剂使用方法:超声波清洗(根据产品定义时间,温度浓度以及频率)去除附着在光学元件上的油脂或雾状的污渍等时使用的溶剂。由于挥发性较高,擦净后不易留下不均的擦拭痕迹的清洁剂。玻璃清洗剂广泛应用于建筑、装饰、汽车、电子、光学仪器各种行业玻璃清洗处理,随着现代社会的发展 , 建筑、装饰、汽车、电子、光学仪器各种行业的玻璃越来越多,上玻璃的清洗问题随之而来,人们需要一种清洗性能好而使用方便的清洗剂.目前市场上销售的可用于清洗玻璃的清洗剂均为液体清洗剂,将清洗剂涂在玻璃上之后,再用布或其它工具将清洗剂擦去,有的还需要用清水擦洗,才能达到清洗的目的.
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